特にｅｕｖ放射のためのガス放電光源

专利摘要:
本発明は、特にＥＵＶ放射及び／又は軟Ｘ線放射を生成するためのガス放電光源であって、少なくとも、２つの電極体１１０、１２０であって、そのうちの第１の電極体１１０が回転可能に装着された電極ディスク１００を有する、２つの電極体を有するガス放電光源に関する。該光源は更に、該電極ディスクのための回転ドライブ１３０と、電極ディスク１００の径方向外側の表面に目標物質１４０の液体膜を塗布するための装置と、該目標物質を蒸発させるために、放電領域２４０において、電極ディスク１００の径方向外側の表面に、フォーカスされたレーザと、を有する。該光源は、該電極体の間に中間の空間２６０が形成され、該中間の空間は、放電領域２４０の外において、該放電領域における中間の空間よりも小さな、５ｍｍ未満の低減された幅を持つことを特徴とする。該光源は、生成される放射が、電極により遮断されることなく、大きな立体角に亘って、単純な態様で発せられることを可能とする。
公开号:JP2011507206A
申请号:JP2010539008
申请日:2008-12-16
公开日:2011-03-03
发明作者:ヤーコブ；ダブリュ ネッフ
申请人:コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ；
IPC主号:H05G2-00

专利说明:

[0001] 本発明は、特に極紫外線（ＥＵＶ）放射及び／又は軟Ｘ線放射を生成するためのガス放電光源であって、少なくとも、２つの電極体であって、そのうちの第１の電極体が回転可能に装着された電極ディスクを有する、２つの電極体と、前記電極ディスクのための回転ドライブと、前記電極ディスクの径方向外側の表面に目標物質の液体膜を塗布するための装置と、前記液体膜から目標物質を蒸発させるために、放電領域において、前記電極ディスクの径方向外側の表面に、フォーカスされたレーザビームを発するためのレーザと、を有するガス放電光源に関する。]
背景技術

[0002] 本発明によるガス放電光源が一部を形成するようなガス放電ベースの放射源の場合においては、パルス電流によって電極系にプラズマが生成され、該プラズマは、放電領域における目標物質を適切に選択した場合には、ＥＵＶ放射又は軟Ｘ線放射の放射源となり得る。]
[0003] ドイツ国特許出願公開DE10342239A1は、特殊な構造の電極、電流源及び冷却系を持ち、目標物質を供給するための特殊な手法を利用する、ガス放電光源を示している。図１は、該放射源の図式的な表現を断面図で示し、真空室２における、２つの回転可能に設置されたディスク状の電極１を示している。これら電極は、各々が回転を生成するためのドライブに接続されたそれぞれの回転軸のまわりの自動回転の場合に、例えば錫のような液体金属５を含む２つの槽にこれら電極が浸されるように配置される。該回転は、電極１の円周における薄い金属膜の形成を引き起こす。或る空間的な位置において、２つの電極１は、ガス放電６が点火される領域において、非常に小さな空間を形成する。該点火は、電極１の円周の表面にフォーカスされたカップルインされた（coupled-in）レーザパルス７を用いて引き起こされる。本図は更に、屑を減らすための装置８、電極１間の金属スクリーン９、及び真空室２の壁における外側スクリーン１０を示している。加えて、かき取り器が示され、これにより電極上の液体膜の厚さが調節される。電流の供給はコンデンサバンク１２及び金属槽への適切に絶縁された導電体１３を介して行われる。] 図１
[0004] 当該ガス放電光源を用いると、ガス放電にさらされる電極表面が絶えず再生成され、有利にも電極の基材は磨耗を被らない。更に、金属融液を通した電極ディスクの回転の結果、密接な熱的接触が存在し、ガス放電により加熱されたディスクが、該融液にエネルギーを効率的に放散させることを可能とする。その結果、回転する電極ディスクは、別途の冷却を必要としない。電極ディスクと金属融液との間の電気抵抗は非常に小さいため、該融液を介して電極ディスクへと非常に大きな電流が送られることができ、この非常に大きな電流は、放射を生成するために適切な非常に高温のプラズマを生成するために、ガス放電において必要なものである。このようにして、金属融液への１つ以上の導体を介して、安定的な態様で、電流が外部から電極へと送られることができる。]
[0005] 当該ガス放電光源においては、電極ディスクは好適には、少なくとも１０−２Ｐａの基本真空度に達する真空系に配置される。その結果、制御されない絶縁破壊に導くことなく、コンデンサバンクからの例えば２乃至１０ｋＶの高電圧が電極に印加され得る。絶縁破壊は、一方の電極ディスクの径方向外側の表面において、電極ディスク間の最も狭い位置において、フォーカスされたレーザパルスにより意図的に引き起こされる。その結果、電極に存在する金属膜の一部が蒸発し、電極間の距離を橋渡しする。絶縁破壊は当該位置において生じ、コンデンサバンクからの非常に大きな電流の流れが生じる。該電流は、金属蒸気を該蒸気がイオン化する温度にまで加熱し、ピンチプラズマにおける所望の放射を発する。]
[0006] 当該ガス放電光源の更なる改善が、ドイツ国特許出願公開102005023060A1に記載されている。本文献においては、２つの電極ディスクは、金属融液を有するそれぞれの大型の槽において、自由には回転しない。金属融液との接触は、ディスク周囲の一部と金属ブロック１４との間のギャップ１９に限られる。このギャップが十分に狭ければ、毛細管力が液体金属を保持させ、例えば重力により引き起こされる特定の圧力にさらされた場合であっても、液体金属が流れ出ないこととなる。図２は、例として、斯かる構成の電極系を図式的に示す。本例においては、金属ブロックは、液体金属５の蓄えを含む槽１５を有する。それぞれの回転の軸３のまわりの電極ディスク１の回転の結果、ギャップ１９における金属は回転の方向に上方に移動させられ、ギャップ１９の上端における余剰金属は、戻り経路１７を介して槽１５へと流れ戻る。回転は矢印により示される。液体金属５がギャップ１９から流れ出ることを防ぐため、該ギャップは、本例においては入口２０及び出口２１において、とりわけ狭くされる。供給経路１６と戻り経路１７との間においては、ギャップ１９は、電極１とブロック１４との間の摩擦力を最小化するために、１ｍｍの厚さを持つ領域を持っても良い。原則的に、本ガス放電光源の場合においては、液体状の導電物質の循環が、ポンプにより付加的に支援されても良い。液体金属を含む槽は、必ずしも金属ブロック１４に位置する必要はない。代替として、適切な供給管により金属ブロック１４に接続された別個の容器であっても良い。] 図２
[0007] 図２に示されるように、金属ブロック１４に蓄積コンデンサが直接に接続される。このようにして、低抵抗の電気接続が、液体金属５を介して、電極に対して確立される。ガス放電のための光源点１８は、本例においては、レーザビーム（図示されていない）の焦点により決定される。このことは、最初のパラグラフに記載されたガス放電光源に関して以上に説明された動作の方法に従う。] 図２
発明が解決しようとする課題

[0008] 回転する電極ディスク間の最も狭い位置の領域において放射プラズマが生成される、これらガス放電光源の電極系の構造の結果、発せられる放射の広がりは、電極自体により少なくとも部分的に妨げられる。影効果により、放射は単純には、幾つかの用途には望ましいものとなり得る２πｓｒの立体角に広がることはできない。]
[0009] 本発明の目的は、あまり複雑でない構造を持ち、同程度の磨耗で、ガス放電により生成される放射を、２πｓｒの立体角で放射することを可能とする、ガス放電光源を提供することにある。]
課題を解決するための手段

[0010] 本目的は、請求項１に記載のガス放電光源により達成される。該ガス放電光源の有利な実施例は下位請求項に開示され、以下の説明及び実施例から推論され得る。]
[0011] 提案されるガス放電光源は、２つの電極体であって、そのうちの第１の電極体が回転可能に装着された電極ディスクを有する、２つの電極体を有する。更に、該ガス放電光源は、前記電極ディスクのための回転ドライブと、前記電極ディスクの径方向外側の表面に目標物質の液体膜を塗布するための装置と、前記液体膜から目標物質を蒸発させるために、放電領域において、前記電極ディスクの径方向外側の表面に、フォーカスされたレーザビームを発するための少なくとも１つのレーザと、を有する。該ガス放電光源は、前記電極体（１１０、１２０）の間に、中間の空間（１６０）が形成され、前記空間の幅は、前記放電領域（２４０）の外において、前記放電領域（２４０）における距離に比べて、５ｍｍ未満に低減されたことを特徴とする。該中間の空間は好適には、電極体間の自由ギャップの形をとるが、例えばセラミック物質のような絶縁体によって部分的に又は完全に満たされていても良い。]
[0012] 本実施例及び電極体の構成により、ガス放電工程におけるパッシェン曲線の左側の分岐において動作が行われることができ、この動作において、例えば電極体の周囲のガスが、少なくとも１Ｐａの圧力を呈する。該ガス放電工程の間、電極体間の狭いギャップにおけるイオン化されたガスが中和され、一方で、２つの放電パルスの間で、放電領域における及び放電領域の上のイオン化されたガスは中和する十分な可能性を持たず、それ故少なくとも部分的にイオン化されたまま残る。従って、該放電領域においては、事前のイオン化が放電を保証するが、狭いギャップにおけるフラッシュオーバ又はガス放電が防止される。該ギャップが絶縁物質で満たされる場合には、該領域におけるフラッシュオーバは絶対的に不可能である。斯くして、先行技術とは異なり、電極はもはや、電極ディスク間の非常に小さな空間の領域により放電領域が形成されるように構成される必要はなく、他の全ての位置において更に離されて配置される必要がある。斯くして、提案されるガス放電光源は、電極体による影効果が先行技術に比べて低減されたガス放電工程が達成されることを可能とする。]
[0013] 好適な実施例においては、２つの電極体は、第２の電極体が、放電領域において、ディスクの径方向外側の表面に対して垂直な方向に、電極ディスクの上に突出しないように構成及び配置される。電極ディスクが、放電領域におけるディスクの径方向外側の表面に対して垂直な方向に、第２の電極体の上に突出することが、特に好適である。このようにして、放射生成プラズマが、２πｓｒ又はそれ以上の立体角で放射を発することが、有利に達成される。]
[0014] 電極系の斯かる実施例においては、ガス放電光源の動作のための２つの電極体の一方を介した目標物質の供給で、完全に十分であることが分かっている。本ガス放電光源の場合においては、当該供給は回転する電極ディスクを介して行われ、液体目標物質を利用する。この場合、第２の電極体は、完全に固定されたものとなるように設計されても良い。]
[0015] 好適な実施例においては、第２の電極体は、第１の電極体を横方向に包囲する。例えば、第２の電極体は、電極ディスクの通過を可能とするため放電領域に面する部分にギャップを有しても良いし、そうでなければ、好適には第１の電極体を中心に回転対称となるように設計されても良い。第２の電極体は、例えばドーム型であっても良い。]
[0016] 上述した実施例は、内部の第１の電極体の形成を可能とし、目標物質を利用するための回転する電極ディスクは、径方向外側に配置され、第１の電極体は、外側の第２の電極体により横方向に包囲され、それにより前記空間、例えば小さなギャップ寸法を持つギャップを形成する。内部の第１の電極体は例えば電極系の陰極として利用されても良いし、外側の第２の電極体は陽極として利用されても良い。２つの電極体間のギャップの小さな寸法は、有利にも放電領域の位置において増大しても良い。]
[0017] 提案されるガス放電光源において、回転する電極ディスク、及び該電極ディスクの径方向外側の表面に目標物質の液体膜を塗布するための装置は、最初のパラグラフで言及された２つの特許出願公開DE10342239A1及びDE102005023060A1に記載されたように設計されても良い。ここで言及された一方の場合においては、電極ディスクは、目標物質の薄膜により湿らせられるように、液体目標物質を含む容器に部分的に浸される。他方の場合においては、該電極ディスクの円周の一部が金属ブロックにより囲まれ、該金属ブロックを介して、周囲の液体目標物質の一部が、同様の方法で電極ディスクを液体物質膜で湿らせるために、金属ブロックと電極ディスクとの間のギャップに供給される。電極ディスクは好適には、第１の電極体のように、金属ブロックに回転可能に装着される。両方の実施例において、電極ディスクの径方向外側の表面における薄膜の厚さを制限するために、上述した刊行物と同じ態様で、１つ以上のかき取り器が備えられる。加えて、液体目標物質の供給は、冷却装置により、目標物質の融点を超える所望の温度で維持され得る。電極ディスクの電気的接触は、金属融液を介して同様の態様で行われることができ、これによりエネルギー供給のために、移動する部分が必要とされない。勿論、上述した刊行物に記載されるように、電極物質の径方向外側の表面に目標物質を供給するための他の実施例も利用され得る。更に、好適には電極もが、冷却装置により、例えば目標物質の融点を僅かに超える温度で維持される。]
[0018] ２つの電極体は真空室に配置され、ガス放電光源の動作に適切な不活性ガス又は動作ガスの圧力が維持される。該圧力は、ガス放電光源の動作が、パッシェン曲線の左側の分岐において行われるように選択される。このようにして、２つの電極体間の狭いギャップにおけるガス放電が防止される。電極ディスクの回転駆動のためのモータは好適には、真空室の外側に配置され、適切な潤滑のないベルトを介して好適に電極ディスクを駆動する。該ベルトは、２５０℃を超える温度のために設計されるべきであり、例えば金属により作られても良い。]
[0019] 該ガス放電光源の動作の結果、金属物質は電極ディスクから絶えず除去され、第２の電極体の表面に堆積される。該物質の除去は例えば、ガス放電自体のスパッタリング効果により、液体として該物質を排出することにより、又は十分に高い表面温度の結果としての蒸発によって、行われても良い。更なる実施例においては、第２の電極体は、放電領域にまで延在する１つ以上の回転可能な構成要素を有する。これら回転可能な構成要素に堆積されるいずれの物質もが、これら構成要素の回転により放電領域から除去され、例えば適切なかき取り器により他の位置へと運び去られる。]
[0020] 提案されるガス放電光源は、実施例により及び添付図面を参照しながら以下に説明されるが、これにより請求項により与えられる保護範囲が限定されることはない。]
図面の簡単な説明

[0021] 先端技術による既知のガス放電光源の図である。
先端技術による更なる既知のガス放電光源を図式的に示す。
提案されるガス放電光源の実施例を、２つのビューで図式的に示す。
提案される更なるガス放電光源の実施例を図式的に示す。
提案される更なるとり得るガス放電光源の実施例を図式的に示す。]
実施例

[0022] 図１及び２に示された先行技術によるガス放電光源は、最初のパラグラフにおいて既に説明された。前記ガス放電光源の電極系の構成及び動作は、生成される放射が発せられる立体角を明らかに小さくさせる。提案されるガス放電光源により、この立体角が明らかに拡大されることができる。] 図１
[0023] 例えば、図３は、提案されるガス放電光源のとり得る実施例の第１の例を、電極系を通り９０°でとられた２つの断面図で示す。液体目標物質の取り扱い、コンデンサバンク、又は電極ディスク（以下陰極ホイールとも呼ばれる）のドライブのような外部要素は、それぞれ図式的な態様で一度だけ示される。ガス放電光源の当該非常に有利な実施例においては、陰極のみが回転可能な陰極ホイール１００となるよう構成され、陰極体１１０に回転可能に設置される。陰極ホイール１００は、回転ドライブ１３０により駆動され、液体錫を供給するための装置１４０により供給される薄い錫膜により常に湿らせられる。] 図３
[0024] 液体錫を供給するための装置１４０は、陰極体１１０に形成された錫の槽であっても良く、該槽に陰極ホイール１００が部分的に浸される。更に、陰極体１１０は代替として、ドイツ国特許出願公開DE102205023060A1に記載されるように、金属ブロックの形をとっても良く、陰極ホイールの周囲の一部を囲み、それにより、中間ギャップを形成し、更には陰極ホイール１００の径方向外側の表面に対して該中間ギャップを介して液体錫を供給するために、少なくとも該中間ギャップに対する供給路を有する。]
[0025] 陰極体１１０は、本例においてはドーム型に設計された陽極体１２０により、横方向に囲まれている。上側において、該陽極体１２０は、図３に示されるように、陰極ホイール１００の通過を可能とするためのギャップを形成する。上方向に突出した陰極ホイール１００の領域を除いて、陽極体１２０及び陰極体１１０は、軸１５０を中心に回転対称となるように構成され、それにより、本例においては２ｎｍ幅の狭いギャップ１６０が、陽極体１２０と陰極体１１０との間に形成される。] 図３
[0026] 陰極体１１０と陽極体１２０とは、例えばセラミックのリング１７０により、互いに対して絶縁されても良い。該リングは同時に、電極系を囲む（本図には示されていない）真空容器とのインタフェースを形成しても良い。加えて、２つの電極体が、絶縁リング１８０により、真空容器自体に対して絶縁されると有利となり得る。斯くして、放電電流の一部が、電極から真空容器の壁へと流れることが防がれる。]
[0027] 陰極ホイール１００の径方向外側の表面から少量の錫を蒸発させるためのレーザパルス１９０は例えば、図３に示されるように、上から下方向へと直接に発せられても良い。陰極から陽極への電流の流れは、電極の上の点により示されたプラズマにより引き起こされるが、該プラズマは、電極空間におけるイオン化されたガスにより、錫の蒸気の結果として、形成される。本例におけるように、陰極ホイール１００が、該ホイールの最も高い位置において、陽極体１２０の輪郭よりも上に突出する場合には、上半分の空間全体において生成されるＥＵＶ放射は、電極によって遮断されない。] 図３
[0028] 勿論、当該電極系は、対応する半分の空間が照射されるように、異なる態様で空間的に配置又は方向付けされることもできる。電極は原則として、放射がいずれの空間的な方向においても利用され得るように、いずれの方向にも配置されても良い。]
[0029] 電極に約１０乃至２０ｋＡのパルス電流を供給するエネルギー貯蔵部は、例えばコンデンサバンク２００における複数のコンデンサの並列配置から成っても良い。これらコンデンサは有利にも、低インダクタンスの遷移を実現するために、陰極及び陽極に非常に近くに環状に配置される。]
[0030] 陰極ホイール１００は有利にも、真空容器の外に配置されたモータにより駆動される。図３に示されたような構成の場合には、回転の方向は、例えば９０°そらされる必要がある。真空における潤滑のない歯車の磨耗により、斜交歯車は適切ではない。それ故、駆動のため、２５０℃を超える温度にも耐えるよう構成された歯付きベルト又は同様の構造が有利に利用される。斯くして、例えば、１つ又は２つのディスク２２０は、陰極ホイール１００の軸２１０に取り付けられても良く、該ディスクは径方向外側に延在するピンの列を呈する。このとき、駆動ベルトのために、例えばディスク２２０上で動作し前記ピンを介して該ディスクを駆動する、開口を備えた薄い金属ベルトが利用されても良い。該ベルトは、真空容器の外に配置された回転ドライブ１３０のモータに接続される。回転軸２１０の軸受は、例えば電極体の領域において、真空シールとして実施化されても良い。この場合、駆動ベルトを備えたディスク２２０もまた、真空の外に配置される。] 図３
[0031] これを達成するため、レーザパルス１９０の放射及び関連する錫の除去に陰極ホイール１００をさらした後に、陽極への電流の流れが引き起こされ、導電性のプラズマが電極間に成長するか又は電極間に既に存在している必要がある。真空容器が例えば数Ｐａの低圧でガスを含む場合には、該ガスはガス放電光源の動作により自動的にイオン化される。例えば２ｍｍの陰極体１１０と陽極体１２０との間の小さな距離のため、該ギャップにおいて互いに向き合って配置された陽極体１２０及び陰極体１１０の壁において、２つの放電パルス間で、当該イオン化されたガスが再結合する。電極の上の領域においては、電極体の壁までの距離が増大し、それにより少なくとも１ｋＨｚの高いパルス反復速度では、完全な再結合が起こることができない。そのため、後続する放電パルス又はレーザパルスの先頭から、電流輸送のための導電プラズマが利用可能である。設定され得る他の適切なパラメータは例えば、ガス圧、ガスのタイプ、又はガス放電光源の最適な動作のための反復周波数である。加えて、例えばＤＣ放電又は高周波放電を用いて、事前のイオン化のための装置により、放電領域２４０においてプラズマを継続的に維持することも可能である。高周波放電はパルス状の態様で引き起こされても良く、コンデンサの放電及びレーザパルスと時間的に適切に同期されても良い。該放電は更に、スパッタリングの結果として、固定された陽極に堆積した錫が再び除去され、それにより、例えば数十マイクロメートルの一定の厚さを持つ「保護膜」のみが形成されることを特徴としても良い。]
[0032] 図４は、提案されるガス放電光源の更なるとり得る実施例を示す。本図においても、装着された陰極ホイール１００を有する陰極体１１０が示され、該陰極体は、本例においては、陰極ホイール１００の一部が浸される錫の槽２５０を有する。放電領域２４０の下の領域においては、陰極体１１０が陽極体１２０により横方向に囲まれる。図に示されるように、陰極ホイール１００の径方向外側の表面に垂直な方向において、陰極ホイール１００は、放電が起こる領域２４０において、陽極体１２０の上に突出する。本例においてはまた、陽極体と陰極体とは、陰極ホイール１００の領域を除いて、回転対称となるように構成される。本図はまた、環状に配置されたコンデンサバンク２００を示す。本例においては、陽極体１２０の上に中間板２６０が配置される。該中間板２６０は、陰極ホイール１００の通過を可能とするための中央ギャップと、少なくとも１つの孔を備える。これらの孔は、陰極と陽極との間の電流経路のための規定路として働く。図の左下部分に、当該中間板２６０の平面図が示され、個々の孔、陰極ホイール１００が通過するギャップ、及び電流経路２７０が示されている。中間板２６０は金属からできたものであっても良いが、その場合には、他の構成要素に対して絶縁されるべきである。本図においては、該絶縁は絶縁リング２９０により達成される。] 図４
[0033] 図５は、提案されるガス放電光源の更なるとり得る実施例を示す。その構造は、特に陰極の形状に関して、図４に示されたものに類似する。しかしながら、本例においては、陽極体１２０は、放電領域２４０の近くの上部の領域において、放電領域２４０にまで延在する２つの陽極ホイール２８０を有する。これら回転する陽極ホイール２８０により、レーザ及び放電により陰極から除去され他の表面に堆積された錫が運び去られ、陽極の効率的な冷却が達成され得る。駆動機構、及び陽極ホイール２８０から錫を除去するための手段は、本図には図示されていない。] 図４ 図５
[0034] １電極ディスク
２真空室
３回転軸
４ 槽
５液体金属
６ガス放電
７レーザパルス
８屑を減らすための装置
９金属スクリーン
１０スクリーン
１１ かき取り器
１２コンデンサバンク
１３導電体
１４金属ブロック
１５ 槽
１６供給経路
１７戻り経路
１８光源点
１９ギャップ
２０ 入口
２１出口
１００陰極ホイール
１１０陰極体
１２０陽極体
１３０回転ドライブ
１４０液体錫を供給するための装置
１５０ 軸
１６０ ギャップ
１７０セラミックのリング
１８０絶縁体リング
１９０ レーザパルス
２００ コンデンサバンク
２１０ 軸
２２０ディスク
２４０放電領域
２５０ 錫の槽
２６０中間板
２７０電流経路
２８０陽極ホイール
２９０ 絶縁体リング]

权利要求:

請求項1
特にＥＵＶ放射及び／又は軟Ｘ線放射を生成するためのガス放電光源であって、少なくとも、２つの電極体であって、そのうちの第１の電極体が回転可能に装着された電極ディスクを有する、２つの電極体と、前記電極ディスクのための回転ドライブと、前記電極ディスクの径方向外側の表面に目標物質の液体膜を塗布するための装置と、前記液体膜から目標物質を蒸発させるために、放電領域において、前記電極ディスクの径方向外側の表面に、フォーカスされたレーザビームを発するためのレーザと、を有するガス放電光源において、前記電極体の間に、中間の空間が形成され、前記空間の幅は、前記放電領域の外において、前記放電領域における距離に比べて、５ｍｍ未満に低減されたことを特徴とする、ガス放電光源。
請求項2
第２の電極体が、前記放電領域において、前記ディスクの径方向外側の表面に対して垂直な方向に、前記電極ディスクの上に突出しないことを特徴とする、請求項１に記載のガス放電光源。
請求項3
前記電極ディスクは、前記放電領域において、前記ディスクの径方向外側の表面に対して垂直な方向に、前記第２の電極体よりも上に突出することを特徴とする、請求項２に記載のガス放電光源。
請求項4
前記第２の電極体は、前記第１の電極体を横方向に囲むことを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のガス放電光源。
請求項5
前記第２の電極体は、前記電極ディスクの通過を可能とするための、前記放電領域に面する部分におけるギャップを有し、又は、前記第１の電極体を中心に回転対称となるように構成されたことを特徴とする、請求項４に記載のガス放電光源。
請求項6
前記第２の電極体はドーム型であることを特徴とする、請求項４又は５に記載のガス放電光源。
請求項7
前記回転ドライブはベルトを有し、前記ベルトを介してモータが前記電極ディスクを駆動することを特徴とする、請求項１乃至６のいずれか一項に記載のガス放電光源。
請求項8
前記電極体は、１Ｐａ以上のガス圧が設定された真空容器のなかに配置されたことを特徴とする、請求項１乃至７のいずれか一項に記載のガス放電光源。
請求項9
前記中間の空間が、前記電極体の間のギャップとなるように構成されたことを特徴とする、請求項１乃至８のいずれか一項に記載のガス放電光源。
請求項10
前記中間の空間は、絶縁物質により部分的に又は完全に満たされることを特徴とする、請求項１乃至８のいずれか一項に記載のガス放電光源。
請求項11
前記放電領域の位置において、前記電極ディスクの通過を可能とするためのスロットと、前記電極体の間の電流経路を規定するための１つ以上の開口と、を持つ中間板が配置されたことを特徴とする、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のガス放電光源。
請求項12
前記第２の電極体は固定されるように構成されることを特徴とする、請求項１乃至１１のいずれか一項に記載のガス放電光源。
請求項13
前記第２の電極体は、前記放電領域まで延在する１つ以上の回転可能な構成要素を有することを特徴とする、請求項１乃至１１のいずれか一項に記載のガス放電光源。
請求項14
前記放電領域に存在するガスを予めイオン化するための装置を有することを特徴とする、請求項１乃至１３のいずれか一項に記載のガス放電光源。